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        可定制脈沖激光沉積(PLD)系統
        Pulsed Laser Deposition System
        商品貨號:ECS002828
        商品品牌:Hisky
        PDF 文檔: Download可定制脈沖激光沉積(PLD)系統details Document
        詳細介紹
        可定制脈沖激光沉積系統
        —— Pulsed Laser Deposition System
        脈沖激光沉積Pulsed Laser Deposition系統,簡稱PLD系統,本系統由準分子激光器和真空鍍膜室兩大部分組成;真空鍍膜腔由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。
        一、激光器部分:
        基于LightMachinery最暢銷的IPEX系列工業級準分子激光器,為PLD應用優化了激光器;IPEX系列準分子激光器在脈沖激光沉積PLD領域展現了優異的性能、耐用性、可靠性和滿足研究人員和系統集成商要求的易于集成性能。
        激光器優點:
        1)    優秀的光束勻稱性,脈沖到脈沖能量穩定和短脈沖持續時間
        2)    在所有重復率能量恒定
        3)    最長氣體壽命和最低運行成本的ICONTM(在鎳集成陶瓷)技術
        4)    EasyClean自動光學密封,以保持填充氣體,減少維護時間
        5)    高亮度鏡頭,適用于降低光束發散或延長相干長度
        6)    定制光束傳輸系統
        PLD性能穩定:
        1)   能量恒定:IPEX-740/760系列激光器的指定脈沖能量從單脈沖到最大重復頻率都是恒定的。這與其他有競爭力的激光器只能在低重復頻率能量恒定和能量隨脈沖重復率上升而快速下降形成鮮明對比。LightMachinery的方法使PLD的工藝參數與激光重復率是一個恒量。
        2)   恒定脈沖穩定性:在PLD應用中,脈沖能量受一個先進的能量監視器監控,能夠準確的調節放電電壓和混合氣體,在任何操作條件,包括PLD需要的一組脈沖,恒定輸出能量。
        3)   指向性穩定:鏡片座穩定性高.<200μrad指向穩定性,光學維護后不需要調制光束角度
        4)   光束質量穩定:IPEX-740/760系列激光器的光束強度分布被設計為邊緣陡峭,頂部平坦,特別是激光器長期工作無變化。
        激光器規格:
        Wavelengthnm
         
        248
        KrF
        193
        ArF
        Stabilised Pulse EnergymJ
        at all repetition rates
        Ipex-740Series
        400
        150
        Ipex-760Series
        600
        200
        Maximum Repetition Ratepps
        Ipex-746
        100
        100
        Ipex-744
        50
        40
        Ipex-742
        25
        20
        Ipex-766
        Ipex-764
        Ipex-762
        50
        30
        15
        40
        25
        12
        Stabilised Average PowerW
        Ipex-746
        40
        15
        Ipex-744
        20
        6.0
        Ipex-742
        10
        3.0
        Ipex-766
        Ipex-764
        Ipex-762
        30
        18
        9
        10
        5.0
        2.5
        Pulse Durationns)(FWHM,nominal
        12-20ns
        Beam Dimensionsmm)(V×H,nominal
        Ipex-740Series
        12×26
        Ipex-760Series
        12×28
        Beam Divergencemrad)(V×H,nominal
         
        1×3
         
         
         
        二、真空鍍膜腔:
        1、濺射真空室組件 1套                                         
        球型真空室尺寸Ф450mm,選用優質不銹鋼材料制造,氬弧焊接,表面進行特殊工藝拋光處理,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封;
        2、旋轉靶臺組件 1套                                          
        1)   每次可以裝四塊靶材,靶材尺寸:i)Φ60mm和(ii)Φ25mm;
        2)   每塊靶材可實現自轉,轉速560轉/分,連續可調,由電機驅動磁力耦合機構控制;
        3)   靶位公轉換位機構,由電機驅動磁耦合機構控制;
        4)   靶材屏蔽罩將4塊靶材屏蔽,每次只有一個靶材露出濺射成膜,以避免靶材之間的交叉污染;
        3、抗氧化基片加熱臺組件 1套                               
        1)   基片尺寸:可放置φ2基片;
        2)   基片加熱最高溫度 800℃±1,由熱電偶閉環反饋控制,采用抗氧化材料作加熱器;
        3)   基片可連續回轉,轉速560轉/分,電機驅動磁耦合機構控制;
        4)   基片與靶臺之間距離3090mm可調,由腔外手動波紋管調節機構控制;
        5)   手動控制樣品擋板組件:1套;
        6)   樣品托:2個;                                    
        4、窗口及法蘭接口部件 1套                          
        5、激光束掃描控制系統 1套
        二維掃描機械平臺,兩套電機控制,也可手動控制;
        6、工作氣路 2路
        7、抽氣機組及閥門、管道 1套                                 
        8、安裝機臺架組件 1套                                      
        優質方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理;機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾;四只腳輪,可固定,可移動;
        9、真空測量及電控系統 1套   
        1)電源機柜:1臺(含總控電源,有斷電保護功能);
        2)控制電源:1臺(為機械泵、電磁閥等提供電源);
        3)產生氧等離子體的電離電源:1套;
        4)樣品加熱控溫電源:1套(可實現程序控溫);
        5)電機旋轉電源:3套;
        6)加熱烘烤及照明電源:1套;
        7)寬量程數顯真空計(成都):1套;測量范圍:1.0x105Pa1.0x10-8Pa。
        8)100SCCM質量流量顯示器:1套;
        9)激光掃描電源:1套;(激光器用戶提供)
        10) 分子泵控制電源:1套
        10、計算機控制系統 1套       
        商品標記

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